使用光電化學(xué)工作站，可以實(shí)現(xiàn)哪些功能
點(diǎn)擊次數(shù)：2229 更新時間：2022-07-28
光電化學(xué)工作站采用閉環(huán)控制技術(shù)調(diào)節(jié)和調(diào)制光強(qiáng)和單色光，從而保證了光源的穩(wěn)定性。在儀器匹配的光源內(nèi)裝有光強(qiáng)傳感器，工作時系統(tǒng)自動比較并計算測得的實(shí)際光強(qiáng)與設(shè)定值的偏差并加以校正，這樣就消除了由于光源器件的非線性、老化、以及溫度漂移產(chǎn)生的光強(qiáng)輸出誤差。不僅如此，儀器還允許直接輸入單位為(W/cm2)的具體數(shù)值校正光源，非常方便。該工作站負(fù)責(zé)控制、驅(qū)動激發(fā)光源，輸出強(qiáng)度調(diào)制光信號。
光電化學(xué)工作站是將光化學(xué)與電化學(xué)方法合并使用，以研究分子或離子的基態(tài)或激發(fā)態(tài)的氧化還原反應(yīng)現(xiàn)象、規(guī)律及應(yīng)用的儀器。光電化學(xué)工作站可用于研究光直接影響電極過程的電化學(xué)、用于光能與電能和化學(xué)能的轉(zhuǎn)換測量、光電化學(xué)電池的光電轉(zhuǎn)化測量、光電合成。利用光電化學(xué)原理可以富集稀有金屬和貴金屬，又可以記錄和保存信息，還可用簡單的方法隨時消去信息。
線性掃描技術(shù)：線性掃描伏安法、循環(huán)伏安法、塔菲爾（Tafel）曲線測量、線性掃描溶出伏安法；脈沖技術(shù)：微分脈沖伏安法、微分脈沖溶出伏安法；方波技術(shù)：方波伏安法、方波溶出伏安法(EIS，CV等所有電化學(xué)功能)。
工作環(huán)境：
1）環(huán)境溫度：-15oC ～~ 45 oC
2）環(huán)境相對濕度：< 75%
3）儀器四周通風(fēng)良好，空氣中不含腐蝕性氣體
4）儀器周圍無強(qiáng)電磁場干擾
5）電源電壓：AC220V（50Hz）±10%
